Silizio oxidoa

Deskribapena

SiO oxidoa SiO₂,Silizio dioxidoa, silizea eta kuartzoa izenez ere ezaguna, hauts zuri eta usainik gabekoa, CAS No.7631-86-9, urtze-puntua 1710 °C, dentsitatea 2,2-2,6 g/ml, uretan gaizki disolbagarria, indize baxua da. beste edozein konposatu kristalino baino gehiago erabiltzen den materiala.Garbitasun handiko silizio oxidoa SiO₂ 5N% 99,999 mikra hautsarekin araztuta dago, izaera kimikoan egonkorra dena..Nano Partikula Silizio Oxidoa SiO₂ 7nm eta 20nm-en % 99,9a zaporerik gabeko hauts esferiko amorfo zuria da, eta ezaugarri berezi asko ditu, hala nola tamaina kuantikoko efektua, gainazaleko efektua, tunel makrokuantikoa.SiO oxidoa₂Western Minmetals (SC) Corporation-en -200+500 sare azpimikron hautsaren tamainan entregatu daiteke, eta 7nm edo 20nm nano hautsa 25 kg-ko paketean kartoizko bidoian barruan plastikozko poltsa duen, edo soluzio perfektuetarako zehaztapen pertsonalizatu gisa.

Aplikazioak

Garbitasun handiko silizio oxidoa SiO₂edo silizea edo kuartzoa, % 99,999ko purutasun-hautsa, beira optikoa, kuartzozko beira, telekomunikaziorako zuntz optikoa, tresna optikoa, czochralski arragoa, kuartzozko makina piezak, estaldura optikoa eta film meheko estaldura materialak, osagai elektronikoak, lubrifikatzaileak, ekoizteko erabiltzen da batez ere. itsatsiaren aurkako agenteak, eta apargabetzeko agentea, etab. SiO₂Laser ispiluetarako geruza anitzeko estalduretan ere erabil daiteke, islapenaren aurkako estalduretan, izpi zatitzaileetarako eta film meheko kondentsadoreetarako.Nano Partikula Silizio Oxidoa SiO₂% 99,9 katalizatzaileak, iragazkiak, sendagaiak, pakete elektronikoak, euskarri magnetikoak, zuntzez indartutako konposatuak, zeramika, kosmetikoak, bakterioen aurkako materialak eta abar prestatzeko da.

Kontsulta orain

Xehetasunak

Etiketak

Zehaztapen Teknikoa

SiO₂

Itxura	Kristala
Pisu Molekularra	60.08
Dentsitatea	2,648 g/cm³
Urtze-puntua	1600-1725 °C
CAS zenbakia.	7631-86-9

Ez.	Elementua		Zehaztapen estandarra
1	Garbitasuna SiO₂≥		Ezpurutasuna(PCT edo PPM Max bakoitza)
2	3N	%99,9	Ca/Mg/Na/Cu/Mn/Co/Pb/N/S 0,001, Fe/Ni/K 0,002	PCT %
	5N	%99,999	Cr/Mn/Co/Sn/Na/Ni/Cu/V 0,5, Al/Fe/Pb/Ti/Mg 1,0	Guztira ≤10
3	Tamaina		7nm, 20nm hautsa 3N garbitasunerako, -200 + 500meah hauts 5N garbitasunerako
4	Enbalatzea		25kgs ehundutako poltsa edo kartoizko bidoian barruan plastikozko poltsa duena

Garbitasun handiko silizio oxidoa SiO₂99,999% 5N eta nano partikula silizio oxidoa SiO₂Western Minmetals (SC) Corporation-en % 99,9 3N -200 + 500 sareko submikron hautsa eta 7 nm edo 20 nm nano hautsa 25 kg-ko paketean ehundutako poltsan edo kartoizko bidoian barruan plastikozko poltsa duen, edo pertsonalizatutako zehaztapen gisa. irtenbide ezin hobeak.

Garbitasun handiko silizio oxidoa SiO₂edo silizea edo kuartzoa, 99,999% 5N purutasun mikra hautsa, batez ere beira optikoa, kuartzozko beira, telekomunikaziorako zuntz optikoa, tresna optikoa, czochralski arragoa, kuartzozko makina piezak, estaldura optikoa eta film meheko estaldura materialak, osagai elektronikoak, lubrifikatzaileak ekoizteko erabiltzen da. , atxikimenduaren aurkako agenteak, eta espuma ezabatu eta abar. SiO₂Laser ispiluetarako geruza anitzeko estalduretan ere erabil daiteke, islapenaren aurkako estalduretan, iragazkiak, izpi-banatzaileak eta film meheko kondentsadoreak.Nano Partikula Silizio Oxidoa SiO₂99,9% min, nano partikulen kalifikazioa, katalizatzailea, iragazkiak, sendagaiak, pakete elektronikoak, euskarri magnetikoak, zuntzez indartutako konposatuak, zeramika, kosmetikoak, bakterioen aurkako materialak eta pigmentuak eta abar prestatzeko da.